Выйти на платы: российский литограф ускорит выпуск микросхем в 3 тыс. раз
Российская команда при поддержке НТИ создала проект многолучевого электронного литографа. По расчетам разработчиков, установка позволит экспонировать кремниевую пластину за пять-семь минут вместо полутора-двух недель — примерно в 3 тыс. раз быстрее классических аналогов. Об этом пишет портал Известия.
Ключевой элемент системы — мультикатод — уже изготовлен и испытан. Это единый источник, формирующий сразу множество электронных лучей. В традиционных литографах используется один луч, поэтому скорость обработки несравнимо ниже.
Главный разработчик Евгений Гиваргизов рассказал «Известиям», что удалось создать массивы источников электронных пучков с радиусом закругления вершины всего 1,5–2 нанометра — один из лучших мировых результатов. В отличие от зарубежных систем, где луч расщепляется сложными схемами с зеркалами и затворами, новая технология формирует независимые источники на общей подложке. Это удешевляет оборудование и упрощает его инфраструктуру.
Первый опытный образец может появиться через три года. Технология рассчитана на выпуск чипов от традиционных 350 нм до перспективных процессов с топологией в несколько нанометров. Предельное разрешение, как отмечают в команде, зависит прежде всего от характеристик фоторезистов.
Мнения экспертов разделились. Сергей Сазонов, эксперт НТИ по микроэлектронике, назвал концепцию перспективной, но потребуется надежно управлять большим количеством лучей. Сергей Варнавский указал на раннюю стадию проекта: к моменту готовности установки мировые технологии могут уйти вперед. В то же время на российском рынке, где конкуренция ограничена, разработка может найти применение. В случае успеха она способна снизить зависимость отечественной микроэлектроники от импортного литографического оборудования.
